中国LaAlO3結晶会社
LaAlO3結晶工場
LaAlO3結晶会社

LaAlO3

LaAlO3 結晶は、さまざまなペロブスカイト構造材料との格子整合性が高いため、高温超伝導薄膜や巨大磁気抵抗薄膜のエピタキシャル成長用の基板材料です。

製品説明

ラアルオ3 高温超伝導単結晶基板です。高温超伝導薄膜や巨大磁性薄膜のエピタキシャル成長に適した基板材料です。その誘電特性は、低損失のマイクロ波および誘電体共振アプリケーションに適しています。

主な利点:

誘電率が小さい

低誘電損失

良好な格子整合

熱膨張係数が小さい

優れた化学的安定性。エネルギーギャップが大きい

比表面積が大きい

良好な熱安定性

代表的なアプリケーション:

高温超電導薄膜エピタキシャル基板。マクロ磁性薄膜エピタキシャル基板。マイクロ波増幅と誘電体共振



材料特性

化学式 LaAlO3
成長方法 チョクラルスキー
クリスタルシステム 六角形(室温)
格子定数 六角形 a = 5.357Å c = 13.22Å
硬度 6.5 モース
密度 6.52g/cm3
融点 融点
熱膨張 10×10-6/℃
損失正接 (10GHz) ~3×10-4@300K、~0.6×10-4@77K



技術的パラメータ

寸法 最大直径 76.2mm(3インチ)
厚さ 0.5mm 他の厚さも利用可能
研磨 シングルかダブルか
オリエンテーション <100><110><111>
Ra≦5Å(5μm×5μm)
方向許容差  ±0.2°
オリエンテーションフラット 2°(特殊な場合は1°以内)
結晶の角度 ご要望に応じて特別なサイズと方向も利用可能です

注: 上記のパラメータは参考用です。具体的な要件については、当社の営業担当者にお問い合わせください。

アプリケーション

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