Produktbeschreibung
Die Ion Beam Figure Machine Tool arbeitet mit hoher Strahldichte, kleinem Strahldivergenzwinkel und großer Strahlgleichmäßigkeit. Ein hochenergetischer Ionenstrahl bombardiert die Oberfläche der Optik, um einen hochpräzisen Oberflächenfehler zu erzielen. Die Erzeugung hochenergetischer Ionen basiert auf hochreinem Inertgas, das durch eine Hohlkathode strömt. Die Elektrode erzeugt unter der Entladung des Leistungsmoduls eine Ionisierung und injiziert den Elektronenstrahl in den Hohlraum. Der Elektronenstrahl wird durch die gleichmäßige Elektronenplatte unter der Wirkung des elektrischen Feldes und des Magnetfelds der Anode gleichmäßig im Anodenbereich verteilt. Das elektrische Feld des Gitters. Der ausgegebene Ionenstrahl wird vom System gesteuert, um eine gleichmäßige und stabile Oberflächenentfernung optischer Elemente zu erreichen.
Hauptvorteile:
1. Die ultrapräzise Einflussfunktion mit einer Konstanz besser als 98%.
2. Die Gauß-Einflussfunktion mit FWHM reicht von 40 mm bis 0,1 mm für verschiedene Blenden.
3. Die Optik mit hohem Gradienten bietet mehr Spielraum für eine konstante Einflussfunktion.
Technische Parameter
Crystro-Angebote
