均質化レンズ

この干渉計は、フィゾー干渉と機械的位相シフトの原理に基づいており、自社開発の超色消しビーム拡大およびイメージング システムを備えており、600 ～ 1600 nm の範囲の動作波長を持つレーザー光源のプラグ アンド プレイをサポートしています。

産業用ロボットをベースとしたコンピューター制御光学表面研磨機。光学平面、球面、非球面を使用し、研磨スピンドルツールによって表面誤差を測定します。制御可能な影響関数を獲得し、精密な光学面を仕上げるために、研磨力コントローラをベースとしたフィッティング研磨ツール技術を開発しました。そして、High Mark は、革新的なプロセス技術とソフトウェアを使用して、ミクロンからナノメートルまでの完全なプロセス ソリューションを提供します。

Ce:GAGG は、高い光収量、高密度、良好なエネルギー分解能、シリコン センサーとの良好な発光ピーク マッチング、低い固有エネルギー分解能など、多くの特性を備えた比較的新しい単一シンチレーション結晶です。さらに、この材料は非吸湿性であり、非自己放射性です。 PET、PEM、SPECT、CT、X線およびY線検出などで広く使用されています。

ガドリニウム ガリウム ガーネット (GGG) は、物理的、機械的、化学的安定性に優れているため、磁気光学薄膜用の特別な基板です。

レンズ基板はK9/BK7/クォーツです。

さまざまな種類のリング研磨機を提供できます。当社のすべての機械は、スピン速度、偏心、プレートのアンロードの調整などの加工仕様の監視と制御を自動的に実現でき、高平面レンズおよび超高平面レンズの加工に使用できます。